מפריד מגנטי להסרת רפש ועיבוי TCTJ
הפרדה והסרת רפש עבור מוצר עודף מסווג לאחר טחינה ראשונה. עיבוי עיסה לפני טחינה שנייה וסינון.
הסרת הרפש של המינרל המגנטי לפני הזנתו למסננת הדקה וציפה הפוכה; הריכוז הסופי של מגנטיט.
מִבְנֶה
עקרון העבודה
לאחר שהעיסה מוזנת לתיבת ההזנה, ניתן להזין אותה ישירות לאזור ההפרדה. המינרל המגנטי נספג על פני התוף המגנטי לאחר המגנטיזציה ומועבר לאזור פריקת המינרלים על ידי תוף ההפרדה המסתובב. תחת דחיפה של מי השטיפה, הוא יכול להסיר את השאריות והמינרל משוחרר לתיבת התרכיז עם מי השטיפה או המגרד, והוא הופך לתרכיז. בינתיים, המינרל הלא מגנטי בעיסה זורם לקופסה התחתונה עם העיסה. בשל ההבדל בגודל החלקיקים ובצפיפות בקופסה התחתונה, זה יכול לגרום לחלקיקים הכבדים והגסים לשקוע לתחתית והחוצה מפתח הזנב, אז זהו הזנב הגס, הריר הקל יכול להיפלט על ידי התקני הצפה.
נקודה 1 לחדשנות טכנולוגית בפטנטים
מפריד מגנטי מרוכז מצויד באוגן הזנה רב-נקודתי בתיבת ההזנה, עיצוב פתוח עליון יכול להשיג הזנה צדדית ועליונה, יש סכר גלישה בתיבת ההזנה, מה שהופך את החומרים במיכל לאחידים בכיוון אורך התוף.
נקודה 2 לחדשנות טכנולוגית בפטנטים
ניתן לכוונן את עוצמת השדה המגנטי ואת עומק פני השטח של התוף על ידי התאמת מבנה המערכת המגנטית בהתאם לתכונות החומר ומטרות ההפרדה, מה שהופך את החומרים המגנטיים בפסולת לפחות מ-0.5% בהשוואה למפרידים מגנטיים נפוצים.
נקודה 3 לחדשנות טכנולוגית בפטנטים
המערכת המגנטית מתוכננת באופן חטיבתי בהתאם ליעד ההפרדה, כדי לשפר את החוזק המגנטי באזור ההפחדה, כאשר אזור הריכוז מאמץ מבנה רב-קוטבי כדי להפחית חומרים מגנטיים בזנב, לשפר את ההתאוששות ואת כיתה הריכוז.
נקודה 4 לחדשנות טכנולוגית בפטנטים
זווית העטיפה של המערכת המגנטית גדולה ב-160° מ-127° של הסוג הרגיל במורד הזרם, אזור ההפרדה המגנטית מתארך וזמני הגלגול של החומרים המגנטיים גדלים, וכך משתפרת דרגת הריכוז.
