טחנת סילון פנאומטית מסדרת HPD
בַּקָשָׁה
הגשת מועמדות לתעשייה כימית, מכרה, אלקטרונים, רפואה, סמים, צבע, חומרי הדברה, מזון, הזנה ותעשייה אחרת.
מאפיינים
◆הציוד מתאים לחלקיקים פריכים ויבשים בגודל D50≤5um.
◆ לוח הציפוי של החדר עשוי מקרמיקה מקורונדום או מחומר מיוחד לביש המתאים לטחינה של חומר קשה.
◆טמפרטורת תהליך הטחינה נמוכה מהרגיל, ולכן מתאים לטחינה של חומרים בעלי נקודת התכה נמוכה ורגישים לחום.
◆ ניתן לכוונן את היציאה כדי לקבל מוצרים אידיאליים.
◆ מבנה פשוט, ללא התקן הנעה מכני בפנים, קל להרכבה וניקוי.
